V případě EBG jsou vrstvy TiO2, tak i vrstvy Al2O3 deponovány technologií napařování, kdy dochází k odpařování jejich krystalických forem pomocí elektronů. Dopadající fokusovaný svazek elektronů řízeně rastrující po malé ploše rozžhaví krystalický materiál, který prochází dvěma fázovými přeměnami: tavením a následně vypařováním. Vše probíhá ve vakuové depoziční komoře. Odpařený materiál stoupá vzhůru, kondenzuje na substrátech. Ty jsou z důvodu rovnoměrnosti a uniformity vrstvy umístěny na otáčejícím se karuselu (33 ot/min). 

Antireflexní vrstva kombinující TiO2 a Al2O3 byla navržena z dostupných kombinací vysoko- a středněindexových materiálů stroje Bühler Optics SYRUSpro 1110 a ALD Ultratech/CambridgeNanoTech  FIJI 200. Z hlediska optického jsou TiO2 i Al2O3 vhodnou volbou pro svoji spektrální propustnost kompatibilní s viditelnou a infračervenou vlnovou oblastí od cca 360 nm  do  2 000 nm. I přes menší vzájemný rozdíl indexu lomu λEBG(532 nm) = 2,39 pro TiO2 a lomu λEBG(532 nm) = 1,64 pro Al2O3 je možno dosáhnout nízkých hodnot odrazivosti. Vrstva byla navržena na základě společných depozičních materiálů pro obě technologie a pro svoji aplikovatelnost na běžné optické povrchy (rovina, sféra, asféra). Aplikace těchto vrstev nachází uplatnění především při realizaci antireflexních, dělicích v hluboké ultrafialové oblast, dále tvoří součást vysokoodrazných vrstev u optických prvků ve stejném vlnovém spektru. 

Technologie byla vyvinuta pro substráty typu Corning HPFS 7980, obecně lze aplikovat i na další typy skel, zde však narážíme na jejich omezení snížením propustnosti právě v této inkriminované oblasti.  

Z hlediska návrhu tenkých vrstev se jedná o 4 vrstevnatý laděný systém vzduch/Al2O3/TiO2/Al2O3/TiO2/substrát s jasnou vizí minimalizace počtu vrstev, snížení absorpce a definovaného rozložení vektoru intenzity elektrického pole. Systém je navržen rozladěný (ne běžný v λ/4 poměru optických tlouštěk). Je postaven na dvou tlustších a dvou tenčích dvojicích Al2O3/TiO2 pro dosažení vyšších hodnot prahu laserového poškození (Laser Induced Damage Threshold – LIDT). (Mechanismus výpočtu a hodnoty jednotlivých zdvihů jsou součástí IP Meopty.) 

Pro splnění podmínek odrazivosti R < 0,5 % u PVD je z hlediska stability výroby nutné udržet v disperzní data velmi blízko nominálních hodnot, viz obrázek 1. Tolerance kladená na index lomu je ± 0,05, na koeficient extinkce < 1´10-3, klíčově v intervalu á470, 580ñ nm. V případě zvýšené nestability je nutno ověřit jednotlivé materiály depozicí jednoduchých single-vrstev (tloušťka od 100 nm do 300 nm) a následným stanovením disperzních dat vyhodnocovacím SW (např. Macleod Thin Film, obálková metoda). 

Obrázek 1: Průběh indexu lomu a koeficientu extinkce pro Al2O3 (vlevo) a TiO2 (vpravo) technologie PVD na zařízení Bühler Optics SYRUSpro 1110 DUV (S1). 

Předpokládané teoretické průběhy a reprezentativní spektrální průběhy funkčních vzorků 4 vrstevnatých systémů antireflexního pokrytí jsou zobrazeny na obrázku 2.  

V případě PVD jsou jednotlivé kroky a nastavení depozice uloženy a definovány v programu DP36-4AR_532nm_Corning_0DEG_TiO2AL2O3.  

Obrázek 2: Spektrální průběh 4AR vrstvy realizované na SYRUSpro 1110 technologií PVD (vlevo) teoretická spektrální propustnost a odrazivost na vrstvu, (vpravo) měření výrobní dávky. 

Tabulka 1: Dosažené hodnoty odrazivosti a propustnosti 4AR vrstev na vlnové délce l = 1064 nm připravených technologií PVD a ALD.